中山大学电子与信息工程学院电容耦合等离子体氧化硅刻蚀机采购项目-中山大学-政府采购意向

A****点击查看0300电子工业生产设备

电容耦合等离子体：数量：1台。光电子器件的制备工艺流程与微电子IC芯片的流片基本相同，此次论证的刻蚀机，是在光刻做好图形之后，将光刻胶图形转移到衬底材料的加工流程，是平台不可或缺的重要组成部分之一，该设备主要用于氧化硅的快速高选择比刻蚀，氧化硅材料在光电领域应用广泛，主要用于光波导、光纤和光电子器件。其优良的光学透明性、低损耗和化学稳定性，使其成为集成光学和光通信技术中的关键材料。此外，氧化硅在传感器、激光器和光学涂层中也发挥重要作用；技术要求：支持8inch Wafer,均匀性优于5%，配有loadlock自动进样，双射频源，刻蚀速率>500nm/min，选择比（hardmsk）>3；交付时间要求：8个月；交付地点要求：**市****点击查看东校区纳米楼；售后服务要求：若设备出现故障，卖方在接到买方通知后，2小时内做出故障维修实质性响应，若通过电话、邮件等仍不能解决问题的，卖方售后服务人员（或维修工程师）在48小时内到达买方现场提供设备维修服务。质保期内提供设备例行保养、设备维护及培训等服务。