高光谱探测器掩膜制备设备-北京理工大学-政府采购意向

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采购一套高光谱探测器掩膜制备设备，包括高能离子束沉积设备涂胶显影设备，专用于高光谱探测器阵列的制造。该核心任务是利用涂胶显影设备和高能离子束沉积设备，在特定基底（如硅、石英、铌酸锂等）上完成光刻胶图形的制备与金属掩膜层的沉积，为后续的干法或湿法刻蚀工艺提供精确模板。设备须满足国家、行业及地方现行的相关技术标准与环保规范，确保运行安全、稳定、可靠。所有组件应具备良好的兼容性与可扩展性，系统集成度高，操作**。供应商需提供及时高效的技术支持服务，响应时间不超过24小时；在合同规定期限内完成设备的运输、安装、调试及用户培训；并提供相应的免费质保期，涵盖软硬件维护、故障排查与技术支持，确保系统长期稳定运行。