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序号 | 产品名称 | 数量 | 简要技术规格 | 备注 |
4197-244ZLCP10001/08 | 彩膜近接曝光装置 | 3台 | 设备用途及基本要求: 本设备是在涂布了光刻胶的彩膜基板上进行曝光处理,并具有以下功能: ◇可检测出基板边缘并可对基板位置进行调整。 ◇可检测光罩和基板间的距离并调整。 ◇检测出基板和光罩上的对位标记,并对基板和光罩的位置进行精准对位控制。 ◇通过光罩进行曝光。 要求该设备结构设计合理,采用先进成熟技术,保证系统具有良好的动态品质。所选控制系统执行元件精度高,可靠性好,响应速度快。设备使用、操作、维修方便,造型美观,结构紧凑,整机运行稳定可靠,售后服务优良。 | CNY20000/USD3250 |
****点击查看 | 成盒紫外光固化装置 | 1台 | 设备用途及基本要求: 该设备通过对绝缘膜进行固定波长的偏光紫外线定量照射,从而对绝缘膜内分子定向排列进行改变,达到控制电浆分子排列的目的。 要求该设备结构设计合理,采用先进成熟技术,保证系统具有良好的动态品质。所选控制系统执行元件精度高,可靠性好,响应速度快。设备使用、操作、维修方便,造型美观,结构紧凑,整机运行稳定可靠,售后服务优良。 | CNY5000/USD850 |
4197-244ZLCP10001/12 | 阵列膜面阻抗膜厚测量装置 | 1台 | 设备用途及基本要求: 此设备用于PVD膜、CVD膜、R/G/B/BM等光阻膜图形化的膜厚或孔内深度及面内分布评价,还能进行PVD膜阻抗的测量及面内分布评价,其功能如下: ﹒利用触针式段差计测量PVD膜、CVD膜、R/G/B/BM等光阻膜图形化的膜厚功能; ﹒利用四点探针或两点探针测量PVD薄膜的阻抗功能。 要求该设备结构设计合理,采用先进成熟技术,保证系统具有良好的动态品质。所选控制系统执行元件精度高,可靠性好,响应速度快。设备使用、操作、维修方便,造型美观,结构紧凑,整机运行稳定可靠,售后服务优良。 | CNY3000/USD500 |