高真空电阻蒸发镀膜设备（JJ2024002276）成交结果公告
| 高真空电阻蒸发镀膜设备 | 项目编号****点击查看 | |
| 2024-11-05 09:14:58 | 公告截止日期2024-11-07 11:00:00 | |
| ****点击查看 | 付款方式供方提供货物至需方指定地点经安装验收合格，双方签字确认后，七个工作日内支付全部货款。 | |
| 联系电话 | ||
| 到货时间要求 | 按照合同约定执行 | |
| ￥ | ||
| **市**区同砚路38号****点击查看**校****点击查看学院328 | ||
| 符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件 | ||
采购清单1
| 高真空电阻蒸发镀膜设备 | 1 | 台 |
| 维纳真空 |
| 定制 |
| ￥ |
| 1. 真空腔室：Φ300×H420mm，上钟罩（高硼硅玻璃）+下底座（304 不锈钢）结构； 2. 真空系统 ：600L/s 抽速复合分子泵+直联旋片泵组成的大抽速、准无油真空系统；全量程数显复合真空计（1×105～1×10-5Pa）； 3.真空极限：≤3.0×10-5Pa（2.3×10-7Torr）； 4.抽速：分子泵完全启动，抽至 3.0×10-4Pa≤10min； 5.结构尺寸： （1）抽屉式结构，最大可镀基片尺寸：112×112mm，该范围内可装卡各种规格基片：15～25mm 方形 ITO/FTO 玻璃约 16～25 片； （2）基片掩膜：随设备提供一块掩膜板（客户需需提供掩膜图案）； （3）衬底水冷：采用基片台背板通冷却循环水强制水冷； 6.蒸发源及电源：两组蒸发源；采用水冷式蒸发电极，可长时间稳定工作，兼容金属材料和有机材料的蒸发源结构设计；蒸发源配隔离屏蔽罩，防止两源交叉污染且屏蔽有害热量；6.膜厚监控：采用高精度石英晶振膜厚监控仪在线监测蒸镀速率、自控膜厚； 7.蒸发电源： 台蒸发电源，通过切换按钮，能实现一次真空环境两源依次蒸发；额定功率：2.3KW，恒流工作模式，最大电流 230A； 8.速率和膜厚监控：采用膜厚监控仪和开发的膜厚控制程序，蒸镀过程中实时监测蒸发速率，监控膜厚；厚度监测范围 1～9999，分辨率 1；速率监测范围 0.1～9999.9/s，分辨率 0.1； 9.水冷系统：水冷部件有分子泵、蒸发电极、膜厚仪探头等；配高精度冷却循环水机 1 台； 10.控制方式：PLC 手自动控制，触摸屏操作； 11.报警及保护：对分子泵、膜厚仪探头、蒸发电极等缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警并执行相应保护措施；完善的程序互锁、完备的防误操作设计及保护。 12. 特别定制：掩膜板一块。 二、产品配置 1. 高真空电阻蒸发镀膜设备 2. 冷却循环水机； 3.速率和膜厚检测系统； 4.衬底水冷组件； 5.衬底加热组件； 6.说明书一份； 7.包装箱一套； |
| 按国家法定或行业要求提供售后服务。 |
变更信息
| ￥ 248000 |
| 完全符合要求的最低报价 |
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