| 1. 硬件参数
1.1.▲雾化器：耐高盐、高效石英**雾化器；
1.2.雾室：双通道石英雾室，雾室外配置全包裹式半导体制冷装置，提升去溶效果；
1.3.炬管：一体式石英炬管，无O型圈设计，拆卸和安装方便，炬管X/Y/Z定位可由步进电机控制自动完成；
1.4.★接口：镍制样品锥和截取锥组成的接口，锥数量2个，为防过多基体进入后续质谱系统，在保证灵敏度的前提下锥孔径尽可能小，采样锥孔径≤1.0mm，截取锥孔径≤0.45mm；
1.5.★离子源：数控式、固态射频发生器，射频频率≤27.12 MHz，功率范围500~1600W，射频线圈水冷设计；
1.6.二次放电消除技术：具备屏蔽矩物理接地技术，以预防意外放电造成的工作线圈击穿；
1.7.离子透镜：由离子提取和离子偏转双系统组成，同时装有2个提取透镜。
1.8.★碰撞/反应池：具备八极杆设计，具有最佳离子聚焦及传输效率；
1.9.质量分析器：采用Mo材质双曲面四极杆，提供最理想电场分布和最佳丰度灵敏度；
1.9.1.四极杆驱动频率大于2.8 MHz；
1.9.2.四极杆质量数范围：2-258 amu；
1.10.检测器：检测器离子技术范围不小于0.1-109 cps，即不使用电子稀释等数学手段下动态范围不低于10个数量级；
2. 操作软件：
2.1.操作系统：Windows 10操作系统及在此系统下运行的仪器控制软件；
2.2.全自动工作条件调谐 (AutoTuning)；
3. 性能指标：
3.1.灵敏度【cps/ppm】
低质量数：Li(7) ≥50 M
中质量数：Y(89) ≥300 M
高质量数：Tl(205) ≥200 M
3.2.检测限【3*sigma，ppt】
Be(9) ≤ 0.5 ppt
In(115) ≤ 0.1 ppt
Bi(209) ≤ 0.1 ppt
3.3.背景：≤1.0 cps （在质量数9 amu处实测背景）
3.4.★氧化物产率(CeO+/Ce+) ：≤1.5 %
3.5.双电荷产率(Ce2+/Ce+)：≤3.0 %
3.6.短期稳定性(RSD)： ≤2% (20 min) (须在1ppb 标准溶液中测定)
3.7.长期稳定性(RSD)：≤3% (2 hrs) (须在1ppb 标准溶液中测定)
基本配置
1、ICP-MS 主机1台
2、ICP-MS 原装操作软件1套；
3、循环冷却水机1台；
4、耐氢氟酸进样系统1套；
5、原装ICP-MS调谐液、多元素标准溶液、内标溶液各1套；
6、不间断电源1套 | 
联系人1477个
可引荐人脉867人
历史招中标信息29451条
